乾晶半导体
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生长出来的碳化硅晶锭通过X射线定向仪,标记出所要加工的晶面以及晶面偏角,采用平面磨加工出所需晶面和定位边,再通过外周滚圆将晶锭加工成一定直径的“圆柱体”。
在多线切割的工序中,将“圆柱体”切成一定厚度的“薄片”,对“薄片”的外周进行倒角后,并对每个“薄片”进行激光打码标记,就成为待加工的“毛坯片”。
采用砂轮减薄和研磨相结合,将“毛坯片”表面的线切割损伤层去除,通过一步一步的研磨将“毛坯片”的厚度起伏(TTV和LTV)降低,同时降低表面粗糙度,最后通过化学机械抛光将“毛坯片”的表面粗糙度降低到0.2nm以下。
最终“毛坯片”还需要经过一系列的化学清洗,以去除前道工序的化学残留、表面的颗粒和金属,得到可以应用在外延工序的碳化硅衬底。